ИНСТИТУТ ПО ОПТИЧЕСКИ МАТЕРИАЛИ И ТЕХНОЛОГИИ АКАДЕМИК ЙОРДАН МАЛИНОВСКИ

ИНСТИТУТ ПО ОПТИЧЕСКИ МАТЕРИАЛИ И ТЕХНОЛОГИИ АКАДЕМИК ЙОРДАН МАЛИНОВСКИ

Адрес: град София, ул. Акад. Г. Бончев 109

Тел.: 02/87 20 073;

ЗА НАС

Институтът по оптически материали и технологии (ИОМТ) “Акад. Йордан Малиновски” е основан средата на 2010 година, със седалище град София. Решението за създаването му е на ОС на БАН от 22.03.2010г. на базата на Централната лаборатория по фотопроцеси и Централната лаборатория по оптичен запис и обработка на информация.
Основните цели на новосъздадения институт са ориентирани към:
– Изследване на фотоиндуцираните процеси в микро и нано-размерни слоеве и структури, разработване на високотехнологични материали, методи и технологии за оптични приложения и гъвкава прозрачна електроника, създаване на нови материали и регистриращи системи с приложение в екологията, биомедицинските изследвания, хранителната промишленост, неразрушаващия контрол и опазване на културното наследство;
– Обучение на висококвалифицирани кадри в тези области. Обучение на дипломанти, докторанти и специализанти;
– Провеждане на интердисциплинарни изследвания и съвместни разработки със специалисти от други изследователски звена;
– Реализация на научния продукт чрез иновационна дейност и трансфер на знания към индустрията.
За годините си на съществуване, институтът се е утвърдил благодарение на висококвалифицираният си научен състав, изграден от:
– 3 професори;
– 12 доценти;
– 14 гл. асистенти;
– 2 доктори на науките;
– 24 доктори.
ИОМТ се развива непрестанно, с цел подобряване качеството на работа, ето защо към дадения момент е на лидерските позиции в бранша.
Очакваме Ви!

УСЛУГИ

За своите клиенти, ИОМТ предлага следните специализирани услуги:
– изображения върху стъкло чрез разработения в ИОМТ неорганичен резист;
– фотолитографско структуриране на различни слоеве: Cr, NiCr, Al, Si, SiO2, Si3N4, Au, Pt, InSnO, AIN, стъкло;
– вакуумно отлагане на тънки слоеве от метали, диелектрици, сребърни халогениди, халкогенидни стъкла, керамики, органични и композитни материали;
– спектрометрични измервания на пропускането и отражението на твърди образци в спектралната област 190-3300 nm със спектрофотометър CARY 5E – Varian;
– I-V измервания в широк обхват на стойности на ток – от 100 fA до 1A DC и напрежение от 10 nV до 1000V DC;
– електронна Оже спектроскопия (ASC 2000 – LAS 3000 Riber);
– рентгенов микроанализ (Philips 505/EDAX 9100 и Philips525/EDAX 9900);
– рентгенов дифракционен анализ (Philips 1710) XRD analisis;
– сканираща електронна микроскопия и повърхностен морфологичен и релефен анализ (Phillips 515);
– трансмисионна електронна микроскопия (JEOL JEM 2100 200 kV)- за изследване на формата, големината, структурата и фазовия състав на наноразмерни обекти – наночастици, нанотръбички и др., както и структурата и фазовия състав на тънки слоеве с дебелина под 100 нм; изисква се изследваните материали да не са магнитни и силно радиационно чувствителни.

Изпарен неорганичен фоторезист
– US Pat.4499 073/1985; EU Pat. 0034490/1983, Bulg. Authorship 34522/1983
Разработена е уникална фоторезистна система позволяваща възпроизвеждане на структури до 0.4 µm с конвенционалните устройства на експозиция (λ = 436 nm) и до 0.1 µm при експониране с електрони и рентгенови лъчи. Структури до 1 µm лесно се възпроизвеждат с lift off процес.
Неорганичният фоторезист представлява аморфен халкогениден филм, изпарен във вакуум, който при експонация променя значително своята разтворимост в алкални разтвори като запазва своята отлична устойчивост към повечето киселини.
СПЕЦИФИКАЦИЯ:
– Спектрална чувствителност – λ<540 nm;
– Чувствителност 0.2 J/cm2, (λ = 436 nm); за електрони: 1,3.10-4C cm-2 at 7.5 kV;
– Експозиция ширина ± 30%;
– Проявяване ширина ± 100%;
– Острота на ръба и точност по-добра от 0.1 μm, в зависимост от качеството на маската;
– Минимална ширина на детайла 0.3 μm (λ = 436 nm), 0.1 микрометра (електронен лъч);
– Срок на годност на експониран и неекспониран материал – над 6 месеца;

Кръгови енкодерни решетки
– Ние предлагаме технология и технологични производствени линии за производство на кръгови енкодерни решетки (2.5×2.5″ and 4×4″) – повече от 40000 бр. за година и линейни решетки до 200×1600 mm повече от 10000 линейни метри за година

Изработване на обемни отражателни холограми
– ИОМТ приема поръчки за запис на отражателни холограми с размери до 30 Х 40 см, образци от които са представени по-долу. Холограмите възстановяват пълната информация за заснетия обект – обемност и цветност. Най-подходящи за тази цел са обемните отражателни холограми на Денисюк, възстановявани с обикновена, бяла светлина. Възприятието на холографския образ съвпада изцяло с възприятието на самия обект. Демонстрирането на холограмите изисква специално осветление и подходящо художествено оформление на сцената за възстановяването. В Лабораторията са разработени подходящи пана, включващи и светлинни източници за възстановяване на холограмите, успешно използвани в холографски изложби и частни колекции.
Създаването на обемни холографски копия на музейни експонати, произведения на изкуството и други реликви е едно от първите практически приложения на изобразителната холография. Обикновено достъпът до тези обекти е ограничен поради тяхната уникалност, специалните условия на съхранение и от съображения за сигурност. Ето защо ИОМТ предлага запис на холограми там, където се съхраняват обектите – музеи, изложбени зали, частни колекции и др., с преносима установка.

ПРОДУКТИ

ИОМТ произвежда и предлага за своите клиенти следните продукти:
– обемно отражателни холограми;
– изпарен неорганичен фоторезист;
– линейни скали и решетки с дължина до 1600 mm за инкрементни измервателни системи и кръгови енкодерни решетки и скали, дифракционни и киноформни оптични елементи.